濺射靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩形平麵（miàn）靶材、圓形平麵靶材、圓柱靶材

濺射靶材按成分分類：單質（zhì）金屬靶材、合金靶材、陶（táo）瓷靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿（yán）著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背（bèi）板 

1. 靶功率密度與靶材（cái）冷卻：靶功率越大（dà），濺射速（sù）度越（yuè）大；靶允許的功率與靶材的性質（zhì）及冷卻有關；靶（bǎ）材采用直接水冷，允許（xǔ）的靶（bǎ）功（gōng）率（lǜ）高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟（ruǎn）金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強（qiáng）度足夠---太薄，容易變形，不易真空密封。 

結（jié）構： 

空心或（huò）者實心結構---磁鋼不（bú）泡（pào）或泡在冷水中；厚（hòu）度適當---太（tài）厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。