濺射靶材具有高（gāo）純（chún）度、高（gāo）密度、多（duō）組（zǔ）元、晶粒（lì）均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射（shè）靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的（de）目標材料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被（bèi）濺射飛散出來並沉積於基板（bǎn）上（shàng）製成電子薄膜。

由於高純度金屬強（qiáng）度較（jiào）低，因此濺射靶材需（xū）要在高電壓、高真空的機台環境內完成濺射過程。

超高純金屬的濺射靶（bǎ）坯需要（yào）與背板通過（guò）不同的（de）焊接工藝進行接合，背板起到（dào）主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導（dǎo）熱性能。