磁（cí）控濺射技術自誕生以來，得到了較快的發展（zhǎn）和較廣的（de）應用，對其他鍍膜方法（fǎ）的發展產生了很大的影響。通過大量的實踐，久久成色免费真空總結出（chū）這種（zhǒng）技術的優缺點，如下文所示。

　　優點：
　　1.沉積（jī）速（sù）率高，襯（chèn）底溫升低，對薄（báo）膜損傷小；
　　2.對（duì）於大多數材料，隻要能製造（zào）出靶（bǎ）材，就可以實現濺射（shè）；
　　3.濺射得到的薄膜與基（jī）底結（jié）合良好；
　　4.濺射得到的（de）薄膜純度較高，密度好，均勻性好（hǎo）；
　　5.結果表明，濺射（shè）工藝具有良好的重複性，在大麵積襯底上可獲得厚度均勻的薄膜；
　　6.可以準確控製塗層厚度（dù），通過改變參數來（lái）控製薄膜的粒徑；
　　7.不（bú）同的金屬（shǔ）、合金和氧化物可（kě）以混合，同時濺射在基體（tǐ）上；
　　8.易於工（gōng）業化。


　　但是磁控濺射也存在一些問題
　　1.該技（jì）術所使用的環形磁場迫使次級電子圍繞環形磁（cí）場跳躍。因此，由環形磁場（chǎng）控製的區域是等離子體密度較高的（de）區域。在（zài）該技術中，我們可（kě）以看到濺射氣體氬在這一區域發出強烈的淡藍色光芒，形成（chéng）光暈。光暈下的靶是離子轟擊比較嚴重的部分（fèn），它會濺出一個（gè）圓形的溝槽（cáo）。環形（xíng）磁場是（shì）電子運動的軌道，環形輝光和溝槽生動地表現了這一點。靶（bǎ）材的濺射槽一旦穿（chuān）透靶材，整個靶材就（jiù）會報廢，靶材利用率不高，一般低於40%；
　　2.等（děng）離子體不穩（wěn）定；
　　3.由於基本（běn）的磁通量均不能通過磁性（xìng）靶，所以在靶（bǎ）麵附近不可（kě）能產生（shēng）外加（jiā）磁場。

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