什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利（lì）用物理（lǐ）過程實現物質轉移（yí），將原子或分子由源轉移到基材表麵上的（de）過程。

它的作用是可以使某些（xiē）有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐（fǔ）性等）的微粒噴塗在（zài）性能較低（dī）的母體（tǐ）上，使得母體具有更（gèng）好的性能。

PVD基本方法：真空（kōng）蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空（kōng）心陰極（jí）離子鍍、熱陰極離（lí）子鍍、電（diàn）弧離子鍍（dù）、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技術（shù）是目（mù）前國際上科技含量高且被廣（guǎng）泛應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強（qiáng）、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣（guǎng）泛（fàn）等特點（diǎn）.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下（xià），等離子場下的輝光反應，亦是一個高（gāo）淨化處理過（guò）程；鍍層（céng）的主要原（yuán）材料是以鈦金屬為主（zhǔ），鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的（de），使得PVD 產品本身具備純淨的環保性能。