膜（mó）厚的量測方法大致上可分為原位量（liàng）測、離位（wèi）量（liàng）測兩類（lèi） 

原位星測（cè）係指鍍膜進（jìn）行中量測，普遍使用在物理氣相沉積，如（rú）微天（tiān）平、光學、電阻量測（cè）。

離位量測係指鍍膜完成後量測，對（duì）電鍍（dù）膜的行使較（jiào）為普遍，具（jù）有了解電鍍效率的目的，如質量（liàng）、剖麵（miàn）計、掃描式電子（zǐ）顯微鏡。