磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19060
磁控濺射鍍膜設備是一種具有（yǒu）結構簡單（dān）、電器控製穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有重要影響。
磁（cí）控濺射鍍膜技術在陶瓷表麵（miàn）裝（zhuāng）飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清（qīng）洗→裝（zhuāng）夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空（kōng）→濺射(或多次（cì）濺（jiàn）射)→鍍AF膜→破真空卸片→表麵檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是（shì）以磁控（kòng）濺（jiàn）射鍍（dù）膜設備（bèi）為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，製出超（chāo）硬（yìng）的耐磨鍍層，可（kě）以實現材料的高硬度、高（gāo）耐磨、高耐劃傷特性（xìng）；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出（chū）各層不同折射率材料，可（kě）以調配出任意顏色（sè），使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而（ér）且不會屏蔽電磁信號。
磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝（yì），能夠實現對於陶瓷電子消（xiāo）費品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強（qiáng）度和硬度的同（tóng）時（shí），也能（néng）夠提升其美觀性和藝術性（xìng），更好地滿足消費者的個性化（huà）需（xū）求（qiú）。
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