一（yī）. 鍍層附（fù）著性（xìng）能好 

普通真空鍍膜（mó）時，蒸發料粒子大約隻以一個電子伏特的能量（liàng）向工件表（biǎo）麵蒸鍍，在工件表麵與（yǔ）鍍層之間，形成的界麵擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比（bǐ）一根頭發絲的百分之一還要小。兩（liǎng）者間可以說（shuō）幾乎沒有連接的過渡層，好（hǎo）似截（jié）然（rán）分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當於（yú）一個氣喘籲籲（yù）的長跑運動員，那麽離子（zǐ）鍍的粒子則好（hǎo）似乘坐了（le）高速火箭（jiàn）的乘客，當其高速轟擊工（gōng）件時，不但沉積速度快，而且能夠（gòu）穿透工件（jiàn）表（biǎo）麵，形成一種（zhǒng）注入（rù）基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達（dá）四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍（bèi），因而彼此粘（zhān）附得特別牢。對離子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍（dù）層仍隨基體金屬一起塑（sù）性延伸，無起皮或剝落現象（xiàng）發生。

二.繞鍍能力（lì）強

離子鍍時（shí），蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場（chǎng）中沿（yán）著電力（lì）線方向運（yùn）動，因而凡是有電場存在（zài）的部位，均能獲得良好鍍層，這（zhè）比普通真空鍍（dù）膜隻能在直射方向上獲得鍍（dù）層優越得多。因此，這種方（fāng）法非常（cháng）適合於鍍複零件上的（de）內孔、凹槽和窄縫。用普通真空鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸發料粒子尤（yóu）如攀登雲梯一樣，隻順梯而上；離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背麵和內（nèi）孔（kǒng）中，帶電離子則好比坐上了直升飛（fēi）機，能夠（gòu）沿著規定的航線飛抵（dǐ）其（qí）活動半徑範圍內的任（rèn）何地方。

三. 鍍層質（zhì）量好

離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍（dù）複，不致（zhì）形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍複（fù），由（yóu）於這種（zhǒng）工藝方法還能修（xiū）補工件表麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善被鍍零件的（de）表麵質量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果處理得當，工件疲勞壽命可比鍍前高（gāo）百分之二（èr）、三十.