無論監控儀精度怎樣，它也隻能控製真空室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架（jià）的中間位置。如果（guǒ）真（zhēn）空電（diàn）鍍設備此位置的膜厚不是絕對均勻（yún）的，那（nà）麽遠離中心（xīn）位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏（píng）蔽（bì）罩（zhào）能消（xiāo）除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由（yóu）蒸發源的不穩定或膜材的（de）不同表現而（ér）引起的，所以幾乎（hū）是不可能消除的，但對真（zhēn）空室的（de）結構和蒸發源（yuán）的恰當（dāng）選（xuǎn）擇可以使這些影響最小化（huà）。
　　在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜係統製造廠家提供高性（xìng）能的小規（guī）格、簡便型光學鍍膜係（xì）統，同時，用戶對性能的要求（qiú）不僅沒有降低，反（fǎn）而有所提高，特別是在薄膜密度和保證（zhèng）吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平（píng）均尺（chǐ）寸規格（gé）已經在降（jiàng）低，而應用小規格設備（bèi）進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜係統（tǒng）的關鍵取決（jué）於對以下因素的認（rèn）真考慮：對鍍（dù）膜產品的預期（qī）性能，基片（piàn）的尺寸大小和物理特性以（yǐ）及保證（zhèng）高度一致性（xìng）工藝所必需的所有技術因素（sù）。

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