真空鍍膜（mó）機電化學沉積指的是用電化學（xué）方法在金屬或非金屬製件表麵沉積一層或多（duō）層（céng）金屬鍍層或合金鍍層或複合鍍層的技（jì）術。通常是，表麵具有導電能力的製件，於電（diàn）解質溶液中，被置（zhì）於陰極，在外電流（liú）的作用下，該溶液中的金屬離子，或絡合離子在製件表麵，即陰極表麵發生還原反應，使金屬沉積在製件（jiàn）的表麵（miàn），這一（yī）過程又叫金屬電沉積，俗稱電（diàn）鍍。用真空鍍膜設備電（diàn）鍍的方法可以（yǐ）在金屬或非（fēi）金屬製件表麵得到（dào）功能各異的多種鍍層，滿足在不同環境中對製件的使用要求。
　　它們涉（shè）及四大類：耐腐蝕、抗氧（yǎng）化（huà）；耐磨損（sǔn）、減摩；裝（zhuāng）飾、美化；聲、光、磁、電的轉（zhuǎn）換（huàn），以及其他方麵如催化、殺菌等。內容包（bāo）括（kuò）單金屬鍍層（céng）、合金（jīn）鍍層、複合鍍層、磷化、鈍化、化學氧化、電（diàn）化學氧化等。目前研究方向包括（kuò）：合金（jīn）電鍍、激光電鍍、微粒彌散複合電鍍、纖維增強複合電鍍、梯度功能複合電鍍、微弧氧化（huà）、納米電龜鍍與（yǔ）納米多層膜電鍍等。怎麽挑選市場上形形色色的真空設備?真空鍍膜機電鍍層設計的選（xuǎn）用要在了解它們的特（tè）性、設（shè）計依據、適用範圍、不宜或不允許使用範圍的基礎上進行，進而確（què）定厚度係列與工藝。
　　雖然，它在表麵處理技（jì）術中的曆史較長，工藝也比較成熟，但（dàn）隨著現代工業和技術的飛速發展，對真空鍍膜設備電鍍層的功能性（xìng）要求越來越高，如高（gāo）的耐（nài）腐（fǔ）蝕性、抗氧化性、良好的（de）導電（diàn）性、高硬度、高的耐磨性以及（jí）某些特殊的（de）物理、化（huà）學特性，像特殊的電學（xué）性質、磁學性質、半（bàn）導體性能以及超導性能（néng）等，電鍍新技術也不斷在（zài）發展。

下一個：真空鍍膜設備對底（dǐ）塗（tú）層有哪些請求（qiú）？