真（zhēn）空鍍膜技（jì）術是真空應用技術的一個重要分（fèn）支，它（tā）已廣泛地應用於光（guāng）學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機械、包裝、民用製品、表麵科學以及科學研究等（děng）領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍（dù）、離子鍍、束流沉積鍍以及分（fèn）子束外延等。此外還有化學氣相（xiàng）沉（chén）積法。如果從真空鍍（dù）膜（mó）的目的是為了改變物質表麵的物（wù）理、化學性能的話，這一技術又是真空表麵處理技術中（zhōng）的重要組成部分，其分類如表 6 所示。現就其幾個主要應用方麵（miàn）做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃（lí）或石英（yīng）表麵上（shàng）鍍一層或幾層不同物質的薄膜後，即可成為高（gāo）反射或無反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色片（piàn）。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各（gè）種激光（guāng）器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜（mó）茉莉（lì），都很需要。增透膜則大量用於照（zhào）相和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用於照相機和電視攝象機的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍膜更占有極為重（chóng）要的地位。各種規模的繼（jì）承電路。包括存貯器、運算器、告訴（sù）邏輯元件等（děng）都要（yào）采用導電膜、絕緣膜和保護（hù）膜。作為製備電路的掩膜則用（yòng）到（dào）鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也（yě）都甬道各種薄膜。

        在顯示器件方麵，錄（lù）象磁頭、高密度錄象帶（dài）以及平麵（miàn）顯示裝置的透明導電膜、攝像（xiàng）管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法製備。在元（yuán）件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬（shǔ）陶瓷可以製造電阻，在塑料（liào）上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒可以得到（dào）靜電複（fù）印機用的硒鼓、蒸發鈦酸（suān）鋇可（kě）以製造磁致伸縮的起聲（shēng）元件等（děng）等。真空蒸發還可以用（yòng）於製造超導（dǎo）膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層（céng）。此外還可以對珠寶、鍾表外殼表麵、紡織品金（jīn）屬花紋、金絲銀絲線等蒸（zhēng）鍍裝飾用薄膜，以（yǐ）及采用濺射鍍或離子（zǐ）鍍對刀具、模具等製造超硬膜。近兩年（nián）內（nèi）所（suǒ）興起的多弧離子鍍製備鈦金製品，如不鏽鋼薄板（bǎn）、鏡麵板、包柱、扶手（shǒu）、高檔床托架、樓（lóu）梯欄杆等目前正在盛行。