離子鍍是（shì）真空（kōng）室中，利用氣體放（fàng）電或被蒸發物質部分（fèn）離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或（huò）反（fǎn）應物沉積在基片上。離子鍍把輝（huī）光放電現（xiàn）象、等離子體技術和真空（kōng）蒸發三者有機結合起來，不（bú）僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多（duō）弧離子鍍與一般的離子鍍有（yǒu）著很大的區別。多弧離子鍍采用的是（shì）弧光放電，而並不是傳統離子鍍（dù）的輝光放電進（jìn）行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽（yáng）極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對（duì）基體進行（háng）沉積。

可以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜（mó）等,臥式多弧離子鍍（dù）膜機主要針對大麵積五（wǔ）金工件鍍裝飾膜或者功能（néng）膜（mó），適合於在不鏽鋼板（bǎn）、不鏽鋼管（guǎn）、不鏽鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室（shì）最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大（dà）型板材、管材上鍍製各類（lèi）裝飾膜層（céng）及（jí）功能膜膜（mó）層的適合設備。