GSF係列高精密電子(zǐ)束蒸發光學真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:26172
GSF係(xì)列高精密電子束蒸發光學真空鍍(dù)膜機

工作原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作原理是將(jiāng)膜材放入水冷銅坩堝中,直(zhí)接利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從(cóng)表麵汽化逸(yì)出後入(rù)射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流(liú)密(mì)度大、蒸發速(sù)度快,製成的薄(báo)膜純度高。

應用範圍

光學鍍膜設備可鍍製(zhì)層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射(shè)膜(mó)、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩色(sè)反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車(chē)反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡(jìng)片、光學鏡頭、冷光杯等(děng)產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種(zhǒng)膜係(xì),對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆(jiē)可蒸鍍。

產品特點

1)、高精密光(guāng)學(xué)鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研(yán)發(fā)的PY3100係統聯(lián)合(hé)實現對整個工作過程的全自動控製,可(kě)以實現無人值守,從(cóng)而提高了工作效率和保證(zhèng)產品質量的(de)一致性和穩定性。
2)、大抽速真(zhēn)空(kōng)係統加配深冷裝(zhuāng)置,優秀的動態真(zhēn)空能力,為複雜的光學膜係製備提(tí)供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定(dìng)、性能可靠的E型電子槍,優化設(shè)計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜係(xì)的實(shí)現調工(gōng)了膜料蒸發分(fèn)布方麵的保障。
4)、平穩而高速(sù)旋轉的工件架轉動係統(tǒng),使工件(jiàn)架內外圈產品光譜曲(qǔ)線(xiàn)更趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模(mó)工業生產高端要求的廠商使用。

技術參數表

GSF高精密電子束蒸(zhēng)發光學真(zhēn)空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵(bèng)機組KT630擴(kuò)散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統電(diàn)子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源
充氣係(xì)統壓強控製儀
控製方式(shì)半自(zì)動或全自動(dòng)
膜厚監(jiān)控(kòng)係統石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監控係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備(bèi)參數僅做參考,具體均(jun1)按客戶實際工藝要求設計訂做(zuò)
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