如何掌控（kòng）真空鍍（dù）膜的（de）均勻性
我們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調（diào）試鍍膜機是使用鍍膜機（jī）的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各（gè）真空泵（bèng）的性能；
2、測試（shì）設備（bèi）的密封性（xìng）能，就是抽到極限（xiàn）後保壓1小（xiǎo）時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝（yì）保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有（yǒu）的測試應作記錄，並有記錄人簽字（zì）以及有使用部門或工程（chéng）部門的人確認簽字（zì）

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理（lǐ）的不同分為很多種類，僅僅（jǐn）因（yīn）為都需要高真空度而（ér）擁有統一名（míng）稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並（bìng）且均勻性（xìng）這個概念本（běn）身（shēn）也會隨著鍍（dù）膜尺度和薄膜成（chéng）分而有著不同的意義，下（xià）麵分別說（shuō）一下：

均（jun1）勻性主要體（tǐ）現（xiàn）在（zài）3方麵（miàn）：
1、厚度（dù）上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學（xué）薄膜的尺度（dù）上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空（kōng）鍍膜的均（jun1）勻性已經相當好，可以輕（qīng）鬆將粗糙度控製在可見光波（bō）長的1/10範圍內（nèi），也就是說對於多弧離子鍍（dù）膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任（rèn）何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就（jiù）是說要實現（xiàn）10A甚至1A的表（biǎo）麵平整，是現在真空鍍（dù）膜中主要的技術含量與（yǔ）技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會（huì）由（yóu）於尺度過小而很容易的（de）產生不均（jun1）勻特性，SiTiO3薄（báo）膜，如果濺控濺射鍍膜機過（guò）程不科學，那（nà）麽實際表麵的組（zǔ）分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例（lì），鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真（zhēn）空鍍膜的技術含量所在。
3、晶（jīng）格有序（xù）度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的（de）熱點（diǎn）問題。 

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